SGN思峻GR2000電子漿料超細分散均質機

電子漿料是制造厚膜元件的基礎材料，是一種由固體粉末和有機溶劑經過三輥軋制混合均勻的膏狀物（可聯想成牙膏、油漆等樣子）。

按用途不同，分為介質漿料、電阻漿料和導體漿料：按基片種類分為陶瓷基片、聚合物基片、玻璃基片和金屬絕緣基片電子漿料等；按燒結溫度不同，可分為高溫、中溫和低溫烘干電子漿料；按用途不同，可分為通用電子漿料（制作一般性的厚膜電路）和電子漿料（不銹鋼基板電子漿料、熱敏電阻漿料）；按導電相的價格分為貴金屬電子漿料（銀鈀、釕系和金漿等）和金屬電子漿料（鉬錳漿料）。

我國電子漿料的應用上主要以導體漿料（銀漿、鋁銀漿）為主，其他漿料應用上還不到位，這主要是我國追求低成本的原因。

電子漿料作為一種新型材料，遠遠優異于傳統電路器材（如電阻絲、電熱管等），且具有環保、高效和節能等特點，其成本也與傳統材料接近，無疑將是將來的主要應用方向。

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當前，我國國內對新的高性能的電子漿料的需求越來越大，因此，在借鑒上電子漿料發展的經驗，鎢漿料和鉬錳漿料等新的電子漿料也已經進入到國內市場，并且國內也有部分廠家能夠生產這兩種高性能的電子漿料。

鎢漿料鎢漿料廣泛運用在高溫共燒和陶瓷金屬化上。例如：MCH陶瓷發熱片，SMD陶瓷基座，陶瓷封裝等。

  主要特點

1.鎢漿料與陶瓷收縮率*，燒結與陶瓷結合強度好。

2.燒結后鎢漿料涂層厚度約為0.0127mm。

3.鎢漿料可滿足印刷和小孔填充等工藝要求。

4.鎢漿料中金屬顆粒大小可控制在2微米以內，分散性好。

5.鎢漿料黏性可根據客戶具體要求調制。

6.適用于1300℃到1700℃的高溫。

鉬錳漿料是一種可印刷的厚膜導體漿料，可用作為氮化鋁，氮化硅，氧化鈹，氧化鋁基片的表面導體層。

1.鉬錳漿料中金屬顆粒大小可控制在2微米以內。

2.燒結后鉬錳漿料涂層厚度約為0.0127mm。

3.黏性可根據客戶具體要求調制。

4.適用于1300℃到1580℃的高溫。

這兩種漿料適用于國內各種規格氧化鋁陶瓷。

對于制備高品質的電子漿料，上海思峻公司研發出了SGN思峻GR2000電子漿料超細分散均質機，對于均質機來說大的一個目的就是要達到均質的效果，那么從設備角度來說影響均質效果的因素有哪些呢？
1、均質頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好） 
2、均質頭的剪切速率（越大，效果越好） 
3、均質頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好） 
4、物料在分散墻體的停留時間，乳化均質時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）。
5、循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

上海思峻自主研發生產的超細高剪切均質機，具有高轉速、低能耗、低噪音、高壽命等優勢，經過SGN全體研發生產部員工的不懈努力，終于解決了SGN高剪切乳化機的提速問題。市場上一般使用的高剪切均質機由于定轉子精度以及機械密封的原因，轉速只能達到2910轉，而SGN新研發的立式分體式均質機將轉速提高到9000轉，從而更好的解決了市場的需求。

 超細均質機，主要用于微乳液及超細懸浮液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產。適宜的溫度，壓力與粘度參數與DISPGRSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標準，適合食品及醫藥生產。

 超細均質機的特點：具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性；該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合；三級乳化機由定、轉子系統所產生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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