隔膜分散高速納米膠體磨，制作電池隔膜的分散工藝有以下要求：

-  均勻分散 ：隔膜材料中的各種組分需要均勻分散，以確保隔膜的性能一致性和穩(wěn)定性。

-  控制孔徑和孔隙率 ：隔膜的孔徑和孔隙率對(duì)電池性能有重要影響。孔徑需要均勻且適中，以保證鋰離子的順利通過(guò)和防止正負(fù)極短路。

-  保持材料的完整性 ：在分散過(guò)程中，要避免材料的過(guò)度剪切和破壞，以保持隔膜材料的完整性和力學(xué)性能。

-  避免雜質(zhì)引入 ：分散工藝需要在潔凈的環(huán)境中進(jìn)行，以防止雜質(zhì)的引入，影響隔膜的性能和電池的安全性。

-  能耗和成本控制 ：在保證隔膜性能的同時(shí)，還需要考慮分散工藝的能耗和成本，以實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)效益。

思峻在傳統(tǒng)膠體磨與均質(zhì)機(jī)的基礎(chǔ)上，研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī)，其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯(cuò)齒形，自上而下齒槽深度由深到淺，定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無(wú)限接近，再配合15000RPM的超高轉(zhuǎn)速，當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后，瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來(lái)后進(jìn)入分散盤(pán)腔內(nèi)，根據(jù)物料的特性及處理量的要求，提供2G，4M，6F，8SF不同規(guī)格的斜齒，對(duì)磨細(xì)的顆粒進(jìn)行二次剪切和分散，防止顆粒抱團(tuán)。

高速研磨分散機(jī)， 線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形，具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過(guò)本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，通過(guò)高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

模塊化設(shè)計(jì)的主要特點(diǎn)如下：

-直立式腔體結(jié)構(gòu)，物料可以全部進(jìn)入分散腔；

-良好的表面處理；

-符合CIP/SIP的清洗要求；

-低噪音；

-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316；

-小試、中試到量產(chǎn)，平穩(wěn)過(guò)渡；

-僅需簡(jiǎn)單的更換功能模塊，即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求；

-衛(wèi)生設(shè)計(jì)，適合食品及制藥行業(yè)；

-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。

隔膜分散高速納米膠體磨型號(hào)表：