lwc@sgnprocess.com
lwc@sgnprocess.com
產品中心
PRODUCTS CNTER
產品簡介
醫(yī)藥口服液研磨均質機是口服液生產專用設備，通過研磨與均質作用，將藥液中顆粒細化至微米級并均勻分散。符合GMP標準，保障藥液澄明度與穩(wěn)定性，提升生物利用度，適用于口服液制劑生產，操作精準，確保產品質量。
相關文章
ARTICLES醫(yī)藥口服液研磨均質機
研磨機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
口服混懸液膠磨機，口服混懸液高剪切膠體磨，通過超高的轉速和剪切速率減小物料微粒的粒徑，配合正確的工藝，從而使混懸液達到一種穩(wěn)定的狀態(tài)。
混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題。混懸液中藥物微粒分散度大，微粒與分散介質之間存在著物理界面，使混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。若要制得沉降緩慢的混懸液，應減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。
口服混懸液膠磨機de 剪切速率可以超過10000rpm，轉子的速度可以達到44m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒徑分布就更窄。
GMSD2000模塊主要由兩層分散頭構成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉子齒列高速運轉，產生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切（原理同上），從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產對于粒徑的要求。
口服混懸液膠磨機,主要通過液滴在高速旋轉的轉子和定子間的間隙內被剪切，以及由此間隙和轉子—定子上小孔射流的綜合效應來實現。高速旋轉的液滴受慣性離心力的推動，具有極大的沖擊力，因而產生撞擊作用。離心力的作用使未進入環(huán)隙時的液體具有一定壓力，而進入環(huán)隙后成為高速旋轉液流，液體離開定子小孔后壓力又回升，所以也有一定的空穴效應。高剪切均質機高速旋轉時的液滴流動狀況相當復雜，主要受控于作用在液滴表面不斷變化的流動速度和由此產生的脈動壓力，從而發(fā)生了分裂液滴的張力，使液滴破裂。
醫(yī)藥口服液研磨均質機設備參數表：
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
快速導航：
產品中心：
公司地址上海市嘉定區(qū)朱戴路900號
掃碼加微信
Copyright © 2025 上海思峻機械設備有限公司 版權所有 備案號：滬ICP備16026350號-7
技術支持：環(huán)保在線 管理登錄 sitemap.xml
當前位置：
上一個：
返回列表