立式高剪切膠體磨

產品簡介

立式高剪切膠體磨是高效濕法超微粉碎設備，靠定子與轉子高速相對運動產生剪切、研磨力。它能將固液物料細化到微米級，實現乳化、分散與均質，適配食品、醫藥、化工等領域。設備立式結構占地小，可連續或間歇作業，操作便捷，能提升物料穩定性與后續加工效率。

產品型號：GM2000

更新時間：2025-10-22

廠商性質：生產廠家

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立式高剪切膠體磨

特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GM在摩擦狀態下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GM2000整機采用幾何機構的研磨定轉子，的表面處理和優質材料，可以滿足不同行業的多種需求。

立式高剪切膠體磨

膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區進行研磨破碎。精磨區分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經過三個精磨區的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

SID高剪切膠體磨結構： 三道磨碎區，一級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區。

GM2000系列高剪切膠體磨的特點：

①定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

③溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下

立式高剪切膠體磨

立式高剪切膠體磨設備參數表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。