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產(chǎn)品中心分散機(jī)研磨分散機(jī)
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納米碳管三級研磨分散機(jī)是新材料領(lǐng)域?qū)Ｓ迷O(shè)備，針對納米碳管易團(tuán)聚特性，通過三級遞進(jìn)式研磨與剪切技術(shù)，實(shí)現(xiàn)顆粒高效解聚、均勻分散。設(shè)備分散精度高、穩(wěn)定性強(qiáng)，能精準(zhǔn)控制粒徑，保留材料原有性能，適配規(guī)模化生產(chǎn)，助力提升納米碳管復(fù)合材料的導(dǎo)電、力學(xué)等綜合性能。
更新時(shí)間：2025-11-13
產(chǎn)品型號：GMD2000
瀏覽量：42
頭bao氨芐膠囊研磨分散機(jī)是一款針對頭bao氨芐膠囊的專用設(shè)備，核心用于將膠囊內(nèi)容物研磨至均勻細(xì)粉并高效分散。設(shè)備具備研磨精度高、分散效果好的特點(diǎn)，操作便捷且運(yùn)行穩(wěn)定，能保障物料活性與純度，適配制藥領(lǐng)域小批量或中試生產(chǎn)需求，助力提升制劑生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量。
更新時(shí)間：2025-11-13產(chǎn)品型號：GMD2000瀏覽量：19
胃溶性包衣研磨分散設(shè)備是制藥行業(yè)專用設(shè)備，采用三級錯(cuò)齒定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)。通過超高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生強(qiáng)剪切與研磨力，細(xì)化包衣物料至微米級，確保分散均勻。設(shè)備間隙可調(diào)、密封性好，符合 GMP 標(biāo)準(zhǔn)，支持 CIP 在線清洗，適配 HPMC 等胃溶包衣體系，保障包衣膜光滑致密，廣泛應(yīng)用于片劑、丸劑等制劑生產(chǎn)。
更新時(shí)間：2025-11-12產(chǎn)品型號：GMD2000瀏覽量：36
油性石墨漿料研磨設(shè)備是電子材料領(lǐng)域?qū)Ｓ迷O(shè)備，采用高速轉(zhuǎn)定子與研磨介質(zhì)協(xié)同作用。通過撞擊、剪切效應(yīng)破解石墨團(tuán)聚，將顆粒細(xì)化至亞微米級，確保分散均勻。設(shè)備密封性好、可連續(xù)運(yùn)行，適配油性體系，能保障漿料導(dǎo)電穩(wěn)定性，廣泛應(yīng)用于導(dǎo)電涂料、電池電極等生產(chǎn)場景。
更新時(shí)間：2025-11-12產(chǎn)品型號：GMD2000瀏覽量：29
沉析纖維高剪切分散機(jī)是特種纖維加工核心設(shè)備，采用多級定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)。通過高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)剪切與撞擊力，打散絮狀沉析纖維團(tuán)聚體，細(xì)化至微米級并實(shí)現(xiàn)均勻分散。設(shè)備支持連續(xù)化生產(chǎn)，處理量大、粒徑分布窄，適配高固含量體系，廣泛應(yīng)用于芳綸紙、過濾材料等軍民領(lǐng)域，助力提升制品性能。
更新時(shí)間：2025-11-12產(chǎn)品型號：GRS2000瀏覽量：27石墨烯研磨分散設(shè)備是納米材料領(lǐng)域?qū)Ｓ迷O(shè)備，集研磨與分散功能于一體。通過超高轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)定子產(chǎn)生強(qiáng)剪切、撞擊效應(yīng)，在保護(hù)石墨烯片層結(jié)構(gòu)的同時(shí)，破解團(tuán)聚難題，實(shí)現(xiàn)均勻分散與超細(xì)細(xì)化。設(shè)備適配多體系物料，效率高、穩(wěn)定性強(qiáng)，廣泛應(yīng)用于鋰電、涂料、復(fù)合材料等生產(chǎn)場景。
更新時(shí)間：2025-11-12產(chǎn)品型號：GMD2000瀏覽量：34
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